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[인사이트] 박상우 기자 = 이재용의 삼성전자가 경기도 평택시에 파운드리(반도체 위탁생산) 생산 공장을 지을 전망이다.

이는 EUV(극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위한 투자로, 예상 투자액만 10조원대로 알려졌다.

21일 삼성전자는 평택 캠퍼스에 EUV 기반 파운드리 라인을 구축한다고 발표했다.

공사는 이달(5월)을 시작으로 2021년 하반기 본격 가동을 목표로 하고 있다. 파운드리 라인이 완공될 시 7나노 미만 초미세 공정 기반 제품 생산 규모가 빠르게 늘어날 전망이다.

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사진=고대현 기자 daehyun@

이번 투자는 지난해 4월 이재용 부회장이 2030년까지 133조원을 투자해 시스템 반도체 1위 자리를 차지하겠다며 언급한 '반도체 비전 2030'의 일환이다.

삼성이 이번 투자의 규모를 직접 공개하지는 않았으나, 증권업계에서는 10조원 상당의 투자가 이뤄질 것으로 내다봤다.

평택 공장에는 미세 공정 한계를 극복하는 데 필수 요소인 EUV 장비가 도입돼, 삼성전자가 초미세공정 기술 리더십을 강화하는 핵심 기지로 자리 잡을 것으로 보인다.

이날 이 부회장은 "어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안 된다"며 시스템 반도체 1위를 향한 지속적인 투자 의지를 밝혔다.

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EUV 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원을 이용해 웨이퍼로 반도체 회로를 새기는 기술이다.

기존 공정에서는 불가능하던 초미세 회로 구현이 가능하며, 고성능·저전력 반도체를 생산하는데 필수적인 기술이다.

파운드리 공정은 미세화될수록 크기는 작아지고, 고성능의 시스템 반도체를 만들 수 있다.

현재 글로벌 파운드리 시장은 대만의 TSMC가 압도적인 기술력으로 1위 자리를 차지하고 있으며 삼성전자가 그 뒤를 쫓고있다.

삼성전자는 EUV 기술에서 우위를 점해 TSMC를 따라잡겠다는 계획이다. 삼성전자는 지난해 반도체 비전 발표 이후 파운드리에서 공격으로 투자하고 있다.

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지난해 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작했고, 올해 초 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 확대했다.

앞으로 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화시킨 5나노 제품을 올 하반기에 화성에서 양산한 뒤에평택 파운드리 라인에서도 5나노 제품을 생산할 계획이다.

정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며 "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어가겠다"고 말했다.